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극자외선(EUV) 리소그래피 장비가 필요 없는 기술인 DSA가 창신 메모리 테크놀로지(CXMT)의 DRAM 생산에 성공적으로 구현되었으며, 현재 SMIC의 로직 칩 생산에도 도입
극자외선(EUV) 리소그래피 장비가 필요 없는 기술인 DSA(
Directed
Self
-
Assembly
)가 창신 메모리 테크놀로지(CXMT)의 DRAM 생산에 성공적으로 구현되었으며,
blog.naver.com · 2026.07.03