블로그
- Intel, 18A에서 High NA EUV 검증 완료 Intel Foundry는 EXE High NA EUV 기술을 활용해 코드명 'Panther Lake'인 일부 Intel Core Ultra Series 3 프로세서의 대량 양산(HVM 협력을 보여주는 성과이며 High NA EUV가 첨단 반도체 제조에 대량생산 규모를 통합될 수 있음을 입증했다, Intel 18A 공정의 일부 제품 레이어에서 High NA EUV
- EUV, DUV 30% 증설 및 가격 인상 가능성 Intel Foundry는 EXE High NA EUV 기술을 활용해 코드명 'Panther Lake'인 일부 Intel Core Ultra Series 3 프로세서의 대량 양산(HVM 협력을 보여주는 성과이며 High NA EUV가 첨단 반도체 제조에 대량생산 규모를 통합될 수 있음을 입증했다, Intel 18A 공정의 일부 제품 레이어에서 High NA EUV
- "중국산 DUV는 NXT:1965Ci보다 훨씬 뒤처졌을 가능성" ASML의 전체 노광장비 목록을 보면 1991년을 시작으로 2026년 현재 High NA EUV(EXE:5200)까지 오는데 장비를 한 두개 만들고 올라온 게 아님, 수 십년에 걸친
- 나노 반도체 전공정 기술 중 주성을 넘어설 수는 없다. 질문하신 ASML의 High-NA EUV, 캐논의 임프린트(NIL), 중국의 가속기 기반 광원(SSMB), 주성엔지니어링의 ALG는 각각 1나노 시대를 돌파하기 위해 제안된 핵심 전공정 노광 및 광원 기술 (ASML vs 캐논 vs 중국 가속기) ① ASML: High-NA EUV (EXE 시리즈) 렌즈의 수구경(NA)을 기존 0.33에서 0.55로 끌어올려 빛의