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• 2차원 반도체 손상 없이 선택 도핑…KAIST, 저전압 성능 최대 260배 향상 한국연구재단은 최성율·김용훈·강기범 한국과학기술원(KAIST) 교수 공동연구팀이 초박막 이중 보호층을 활용해 이황화몰리브덴(MoS2) 2차원 반도체를 보호하면서 필요한 영역에 선택적으로 www.etnews.com · 2026.09.07