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• CR-Etchant C08J 등 제조공정 중 리소그래피 공정에서 자외선에 노출된 감광제 (PR&DFR)영역을 선택적으로 용해함으로 금속배선을 형성하는 기능을 가진 제품으로 유,무기타입을 기반으로한 현상액 및 공정 절연막 등을 화학반응을 이용하여 패턴을 형성하거나 반도체 제조 공정에서는 실리콘 산화막을 제거하는 용도로 사용됩니다. blog.naver.com · 2023.12.11